可視光応答性ルチル型二酸化チタン光触媒

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (7件)：重信和男 , 水野昭宣 , 清水英雄 , 高木祐一 , 中野佳直 , 溝渕良一 , 秋庭英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-280447
公開番号（公開出願番号）：特開2011-120998
出願日： 2009年12月10日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：

【課題】工業的生産に適しており、且つ、簡単な手法で、均一で緻密なものとして、光触媒活性に優れた二酸化チタン薄膜を有する基材であって、さらに可視光に対する応答性に優れている二酸化チタン薄膜を有する基材を得る技術を提供する。【解決手段】基板チタンあるいはチタン合金に、窒化物を形成しない程度に窒化処理を施し、それを基板にして陽極酸化を行ない、陽極酸化後に熱処理を施すことにより、基板にドープした固溶窒素を酸化膜に拡散させ、電解浴から陽極酸化膜に混入する硫黄と共に、二酸化チタンへの複合添加を行う。このようにして作製した二酸化チタンは窒素と硫黄がドープされたもので、400nm以上の長波長の光照射下で、有機物酸化分解および超親水性に優れる。またこれらの機能は紫外線照射下での機能の劣化を伴わない。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

チタンまたはチタン合金からなる基材の表面に陽極酸化を施して光触媒活性ルチル型二酸化チタン被覆材を製造する方法において、当該基材のチタンまたはチタン合金に窒化処理を施し、該窒化処理された基材を陽極酸化に付し、前記陽極酸化を施して作製した膜に、熱処理を施して、可視光領域で高い光触媒活性を示し且つ窒素と硫黄がドープされたルチル型二酸化チタン被覆材料を得ることを特徴とする可視光応答性に優れた光触媒ルチル型二酸化チタンを製造する方法。

IPC (4件)：

B01J 35/02 , B01J 37/02 , B01D 53/86 , B01J 37/34

FI (4件)：

B01J35/02 J , B01J37/02 301K , B01D53/36 J , B01J37/34

Fターム (49件)：

4D048AA22 , 4D048AB03 , 4D048BA07X , 4D048BA46X , 4D048BB03 , 4D048EA01 , 4D048EA03 , 4G047CA02 , 4G047CA03 , 4G047CB05 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G047CD07 , 4G169AA01 , 4G169AA08 , 4G169BA04A , 4G169BA04B , 4G169BA18 , 4G169BA48A , 4G169BB11A , 4G169BB11B , 4G169BB11C , 4G169BC50A , 4G169BC50B , 4G169BC50C , 4G169BD06A , 4G169BD06B , 4G169BD08A , 4G169BD08B , 4G169CA10 , 4G169CA17 , 4G169EA07 , 4G169EA11 , 4G169EC22X , 4G169EC22Y , 4G169FA03 , 4G169FA04 , 4G169FB02 , 4G169FB42 , 4G169FC07 , 4G169HA02 , 4G169HB03 , 4G169HC02 , 4G169HC35 , 4G169HD05 , 4G169HE03 , 4G169HE07 , 4G169HF03 , 4G169HF09

引用特許：

審査官引用 (10件)

陽極電解酸化処理によるアナターゼ型酸化チタン皮膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-053609 出願人：奈良県, 株式会社昭和
光触媒用チタン陽極酸化皮膜の生成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-042857 出願人：大和ハウス工業株式会社
金属元素含有酸化チタン皮膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-161339 出願人：株式会社ニコン

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引用文献：

審査官引用 (1件)

"高濃度硫酸水溶液中での陽極酸化によるルチル相を主体とした二酸化チタン光触媒の調製"

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