特許
J-GLOBAL ID:201103011681617090

試料作成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 学
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-244603
公開番号(公開出願番号):特開2001-066231
特許番号:特許第4534273号
出願日: 1999年08月31日
公開日(公表日): 2001年03月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 集束イオンビームを試料片に照射するイオンビーム照射光学系と、 上記集束イオンビームの照射によって発生する二次粒子を検出する二次粒子検出手段と、 上記集束イオンビームの照射領域にデポジション膜を形成する原料ガスを供給するデポジション用ガス供給源と、 上記試料片の一部を分離した摘出試料を移送する移送手段と、 サイドエントリ型試料ステージと、を有する試料作製装置において、 上記サイドエントリ型試料ステージには、上記試料片を載置する第1ステージと上記摘出試料を載置する第2ステージとからなる試料設置部が配置され、 上記試料設置部を、上記サイドエントリ型試料ステージの中心軸に対して平行に直進移動させる手段および上記中心軸に対して垂直方向を回転軸として回転移動させる手段を有することを特徴とする試料作製装置。
IPC (10件):
G01N 1/28 ( 200 6.01) ,  G01N 1/00 ( 200 6.01) ,  G01N 1/32 ( 200 6.01) ,  G01N 23/04 ( 200 6.01) ,  H01J 37/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/305 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  H01L 21/66 ( 200 6.01) ,  G01N 23/225 ( 200 6.01) ,  G01N 23/227 ( 200 6.01)
FI (13件):
G01N 1/28 G ,  G01N 1/28 W ,  G01N 1/28 N ,  G01N 1/00 101 B ,  G01N 1/00 102 B ,  G01N 1/32 B ,  G01N 23/04 ,  H01J 37/20 C ,  H01J 37/305 A ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/66 N ,  G01N 23/225 ,  G01N 23/227
引用特許:
出願人引用 (19件)
  • 試料作製方法および装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-270800   出願人:株式会社日立製作所
  • 試料解析方法および装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-268363   出願人:株式会社日立製作所
  • 試料評価・処理観察システム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-154750   出願人:株式会社日立製作所
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審査官引用 (32件)
  • 試料作製方法および装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-270800   出願人:株式会社日立製作所
  • 試料解析方法および装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-268363   出願人:株式会社日立製作所
  • 試料評価・処理観察システム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-154750   出願人:株式会社日立製作所
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