特許
J-GLOBAL ID：201103011682430180
投影光学系の収差量の測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201982
公開番号（公開出願番号）：特開2000-283890
特許番号：特許第3267272号
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ラインアンドスペースパターンを設けたマスクにより基板上のレジスト膜を露光する工程と、この露光工程を複数の露光量で複数回繰り返して各露光量における前記ラインアンドスペースパターンの両端のラインの線幅差を求める工程と、前記両端のラインの線幅差とその露光量との関係から基準露光量における両端線幅差を推定し前記基準露光量における収差を求める工程とを有することを特徴とする投影光学系の収差量の測定方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01M 11/02 B
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 516 A
