処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小原肇
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-095586
公開番号（公開出願番号）：特開平11-345859
特許番号：特許第4533462号
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ロードロック室がその背面に設けられた送風ファンとフィルタにより上記ロードロック室の外部の空気を清浄化し、清浄化した空気で上記ロードロック室の内部の空気を換気しながらキャリアまで移動する工程と、上記ロードロック室内を上記送風ファンとフィルタにより清浄化した空気で換気しながらその内部の搬送アームを介してキャリア内の被処理体を取り出す工程と、上記ロードロック室が上記送風ファンとフィルタにより上記ロードロック室の外部の空気を清浄化し、清浄化した空気で上記ロードロック室の内部の空気を換気しながら上記キャリアから処理室まで移動する工程と、上記ロードロック室と上記処理室とを接続する工程と、上記ロードロック室内の換気を止めてその内部を減圧する工程と、上記ロードロック室と上記処理室を連通し、上記搬送アームを介して上記ロードロック室と上記処理室との間で上記被処理体を遣取りする工程と、を有することを特徴とする処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/677 ( 200 6.01) , C23C 16/44 ( 200 6.01) , C23F 4/00 ( 200 6.01) , H01L 21/3065 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/68 A , C23C 16/44 F , C23F 4/00 A , H01L 21/302 101 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

連続真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-247632 出願人：株式会社日立製作所, 日立笠戸エンジニアリング株式会社
基板処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-180736 出願人：ソニー株式会社
処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-165108 出願人：東京エレクトロン株式会社

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