特許
J-GLOBAL ID：201103013133018415

反射防止積層体

発明者：
水 野 歌 子

水 野 歌 子 について

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中 條 緑

中 條 緑 について

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篠 原 誠 司

篠 原 誠 司 について

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吉 原 俊 夫

吉 原 俊 夫 について

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西 田 広 泰

西 田 広 泰 について

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村 口 良

村 口 良 について

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平 井 正 文

平 井 正 文 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について

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日揮触媒化成株式会社

日揮触媒化成株式会社 について


代理人 (5件)： 勝沼 宏仁 ,  中村 行孝 ,  横田 修孝 ,  伊藤 武泰 ,  浅野 真理
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-109692
公開番号（公開出願番号）：特開2011-203745
出願日： 2011年05月16日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：
【課題】電離放射線硬化性基を有する中空シリカ微粒子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物のコーティング層を形成した、低屈折率でかつ機械的強度に優れる反射防止積層体を提供する。【解決手段】光透過性基材上に、少なくとも屈折率が1.45以下の低屈折率層が設けられてなる反射防止積層体であって、前記低屈折率層が、電離放射線硬化型樹脂組成物と、外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子とを含んでなり、前記シリカ微粒子の一部もしくは全部が、電離放射線硬化性基を有するシランカップリング剤により、そのシリカ微粒子表面の少なくとも一部が処理されてなる、反射防止積層体とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光透過性基材上に、少なくとも屈折率が1.45以下の低屈折率層が設けられてなる反射防止積層体であって、 前記低屈折率層が、1分子中に3個以上の電離放射線硬化性基を有する電離放射線硬化型樹脂組成物と、外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子とを含んでなり、 前記シリカ微粒子が、50〜300°Cの範囲で水熱処理することにより、シリカ微粒子中に含まれるアルカリ金属酸化物およびアンモニアの量を、それぞれ10ppmおよび2000ppm以下としたものであることを特徴とする、反射防止積層体。
IPC (5件)：
G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  B32B 7/02 ,  B32B 27/18 ,  G09F 9/00
FI (5件)：
G02B1/10 A ,  G02B1/10 Z ,  B32B7/02 103 ,  B32B27/18 Z ,  G09F9/00 313
Fターム (45件)：
2K009AA03 ,  2K009AA12 ,  2K009AA15 ,  2K009BB02 ,  2K009BB11 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  4F100AA17B ,  4F100AA20B ,  4F100AH03B ,  4F100AH05B ,  4F100AH06B ,  4F100AK01B ,  4F100AK25 ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA10D ,  4F100DE04B ,  4F100EH46C ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JG03B ,  4F100JG03C ,  4F100JG03E ,  4F100JK01 ,  4F100JK12C ,  4F100JL06D ,  4F100JN01A ,  4F100JN18B ,  4F100JN18E ,  4F100JN30 ,  4F100JN30C ,  4F100YY00B ,  4F100YY00E ,  5G435BB02 ,  5G435BB12 ,  5G435DD12 ,  5G435GG32 ,  5G435HH03
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (8件)
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