低屈折率コーティング剤および反射防止フィルム

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-231141
公開番号（公開出願番号）：特開2002-317152
出願日： 2001年07月31日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】本発明は、低屈折率コーテイング剤、および耐擦過性を有し、また指紋などの汚れの付着を防止した低屈折率層を有する反射防止フィルムを提供する。【解決手段】有機珪素化合物、又はその重合体のいずれかからなる組成物であるSi(OR)4とR’mSi(OR)4-mからなる共重合体、または、さらにR”nSi(OR)4-nを含んでなる共重合体マトリックス[但し、Rはアルキル基、R’はフッ素含有置換基、R”はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも1つを有する置換基、m、nは置換数である]中に、平均粒径0.5〜200nm、屈折率1.44〜1.34の中空シリカ微粒子を添加したことを特徴とする低屈折率コーティング剤及び低屈折率層を有する反射防止フィルムである。

請求項（抜粋）：

一般式(1)で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Aと、一般式(2)で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Bとの共重合体からなるマトリックス中に、平均粒径0.5〜200nm、屈折率1.44〜1.34の中空シリカ微粒子を添加したことを特徴とする低屈折率コーティング剤。Si(OR)4 ・・・・・(1)(但し、Rはアルキル基である) R’mSi(OR)4-m ・・・・・(2)(但し、R’はフッ素含有置換基、Rはアルキル基であり、mは置換数である)

IPC (5件)：

C09D183/02 , C09D 5/00 , C09D183/06 , C09D183/08 , H04N 5/72

FI (5件)：

C09D183/02 , C09D 5/00 Z , C09D183/06 , C09D183/08 , H04N 5/72 A

Fターム (12件)：

4J038DL021 , 4J038DL032 , 4J038DL052 , 4J038DL082 , 4J038DL102 , 4J038HA446 , 4J038NA19 , 4J038PB08 , 4J038PB09 , 4J038PC08 , 5C058BA30 , 5C058DA01

引用特許：

審査官引用 (12件)

反射防止膜およびそれを配置した表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-212394 出願人：富士写真フイルム株式会社
複合酸化物ゾル、その製造方法および基材
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-298937 出願人：触媒化成工業株式会社
低屈折率組成物およびその組成物からなる光学多層膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-257092 出願人：凸版印刷株式会社

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