特許
J-GLOBAL ID：201103014067969930

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤

発明者：
内海 義之

内海 義之 について

, 
入江 真樹子

入江 真樹子 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-257072
公開番号（公開出願番号）：特開2011-043783
出願日： 2009年11月10日
公開日（公表日）： 2011年03月03日
要約：
【課題】新規な化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材、および光酸発生剤を含有するレジスト組成物であって、光酸発生剤が一般式(b1-1)で表される化合物;式(b1-1)中、Y10は炭素数5以上の環状の炭化水素基であって酸解離性基を表し;R6およびR7は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよく;Y11およびY12はアルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。X-はアニオンである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (18件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 309/06 ,  C07C 309/09 ,  C07C 309/10 ,  C07C 309/17 ,  C07C 309/12 ,  C07C 311/48 ,  C07C 311/53 ,  C07C 309/19 ,  C07C 317/04 ,  C07C 317/06 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027 ,  C07D 333/46 ,  C07D 327/04 ,  C07D 213/79 ,  C07D 285/00
FI (19件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  C07C309/06 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/17 ,  C07C309/12 ,  C07C311/48 ,  C07C311/53 ,  C07C309/19 ,  C07C317/04 ,  C07C317/06 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R ,  C07D333/46 ,  C07D327/04 ,  C07D213/79 ,  C07D285/00
Fターム (41件)：
2H125AF13P ,  2H125AF21P ,  2H125AF22P ,  2H125AF33P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AH04 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125AN62P ,  2H125BA02P ,  2H125BA08P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4C023AA01 ,  4C036AD04 ,  4C055AA01 ,  4C055BA01 ,  4C055CA01 ,  4C055DA57 ,  4C055DB08 ,  4H006AA03 ,  4H006AB40
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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