特許
J-GLOBAL ID：201103014327559103
排ガスの処理方法および排ガス処理装置
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
間山 進也 (外1名)
, 間山 進也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-007182
公開番号（公開出願番号）：特開2002-210327
特許番号：特許第3491026号
出願日： 2001年01月16日
公開日（公表日）： 2002年07月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 排ガスを中空部材に供給する段階と、前記中空部材に配設した複数の電極を含むプラズマ発生手段により前記排ガス中にプラズマを発生させる段階と、前記プラズマ発生手段の後流側に配置され、前記中空部材の内部に複数の円管が配設され、さらに前記複数の円管の各々の内部に電熱線が挿設された抵抗加熱手段にプラズマ処理された前記排ガスを通じて加熱する段階とを含み、前記複数の電極は、放電電極と接地電極として使用され、前記放電電極から前記接地電極へ放電することにより、前記排ガス中にプラズマを発生させ、前記電熱線に電流を供給し、前記電熱線を発熱させることにより、前記複数の円管の各々の内部および前記円管と前記中空部材との間を通して流れる前記排ガスを加熱する、排ガスの処理方法。
IPC (7件)：
B01D 53/56
, B01D 53/32
, B01D 53/74
, F01N 3/08 ZAB
, F23G 7/06
, F23G 7/06 104
, F23J 15/08
B01D 53/32
, F01N 3/08 ZAB C
, F23G 7/06 E
, F23G 7/06 104
, B01D 53/34 129 C
, F23J 15/00 L
