感放射線性樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-289728
公開番号（公開出願番号）：特開2001-109155
特許番号：特許第4135276号
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (A)下記一般式(1)で表される芳香族スルホン酸オニウム塩化合物、並びに(B)下記一般式(2)で表される繰返し単位と下記一般式(3)で表される繰返し単位とを有する共重合体(I)および/または下記一般式(2)で表される繰返し単位と下記一般式(4)で表される繰返し単位とを有する共重合体(II) を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。〔一般式(1)において、Z+ は硫黄またはヨウ素のオニウムカチオンを示し、X- は下記式(1-1)または式(1-3)のいずれかのアニオンを示す。〕〔一般式(2)において、R1 は水素原子またはメチル基を示し、R2 はハロゲン原子または炭素数1〜6の有機基を示し、iは0〜3の整数である。〕〔一般式(3)において、R3 は水素原子またはメチル基を示し、R4 は炭素数4〜10の3級アルキル基を示し、R5 はハロゲン原子または炭素数1〜6の有機基を示し、jは0〜3の整数である。〕〔一般式(4)において、R6 は水素原子またはメチル基を示し、R7 は水素原子または炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、R8 は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、R9 はハロゲン原子または炭素数1〜6の有機基を示し、kは0〜3の整数である。〕

IPC (4件)：

G03F 7/039 ( 200 6.01) , G03F 7/004 ( 200 6.01) , C08K 5/42 ( 200 6.01) , C08L 25/18 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , C08K 5/42 , C08L 25/18

引用特許：

審査官引用 (4件)

フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-281868 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-252601 出願人：ジェイエスアール株式会社
フォトレジスト組成物、その方法及びそれらを含有してなる工業製品
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-252064 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー

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