特許
J-GLOBAL ID：200903011289800988

フォトレジスト組成物

発明者：
ジェームズ・ダブリュー・サッカレー

ジェームズ・ダブリュー・サッカレー について

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ジェームズ・エフ・キャメロン

ジェームズ・エフ・キャメロン について

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ロジャー・エフ・シンタ

ロジャー・エフ・シンタ について


出願人/特許権者：
シップレーカンパニー エル エル シー

シップレーカンパニー エル エル シー について


代理人 (1件)： 佐伯 憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-281868
公開番号（公開出願番号）：特開平11-167200
出願日： 1998年08月28日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：
【要約】 (修正有)【解決手段】脱ブロッキングのために20Kcal/モル以上の活性化エネルギーを必要とする酸に不安定なブロッキング基を有する樹脂バインダー、光分解の際にハロゲン化硫酸を発生させることのできる光酸発生剤、および任意に塩基添加剤を含有するフォトレジスト組成物。【効果】高温の後露光焼成を含む工程においてハロゲン化スルホン酸発生剤を使用すると、線幅変動が実質的に軽減される。
請求項（抜粋）：
脱ブロッキングのために少なくとも20Kcal/モルの活性化エネルギーを必要とする酸に不安定なブロッキング基で置換されたアルカリ可溶性樹脂、並びに、350nm以下の波長で一定のパターンの活性化放射に露出されると光分解を受けて、強力な電子吸引基及び及び0を越えないpKa値を有するスルホン酸を生成する光酸発生化合物を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (17件)
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引用文献：
審査官引用 (2件)
  • ボルハルト・ショアー現代有機化学(上), 19991110, 第3版、上巻, p. 84
  • ボルハルト・ショアー現代有機化学(上), 19991110, 第3版、上巻, p. 84

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