特許
J-GLOBAL ID：200903041244014210
フォトレジスト組成物、その方法及びそれらを含有してなる工業製品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐伯 憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-252064
公開番号（公開出願番号）：特開2000-122296
出願日： 1999年08月04日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：
【要約】【課題】 本発明は貯蔵寿命(shelf life)およびリソグラフ特性が著しく改良された新規なフォトレジスト組成物に関する。【解決手段】 本発明は、ヒドロキシ基を有さない溶媒(例えば、非ハイドロキシリック溶媒)、樹脂バインダー及び当該溶媒に充分な溶解度を有するスルホニウム光酸発生化合物(photoacid generator compound)(PAG)を含有してなるフォトレジスト組成物を提供する。これらのレジストは非常に優れた貯蔵安定性を有する。例えば、長期間に亘って貯蔵された後においても感光速度(photospeed)がほとんど変化しない。
請求項（抜粋）：
(1)光酸遊離基を含有する成分、(2)置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいヘテロアルキル基、置換基を有してもよいヘテロアルケニル基、又は置換基を有してもよいヘテロアルキニル基から選ばれる少なくとも2個の炭素原子を有する基の1個又はそれ以上で置換されているスルホニウム光酸発生化合物、及び、(3)非ハイドロキシリック溶媒、からなり、実質的にハイドロキシリック溶媒を含有しないフォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
