特許
J-GLOBAL ID：201103021396657776

レジスト組成物

発明者：
重松 淳二

重松 淳二 について

, 
市川 幸司

市川 幸司 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-015144
公開番号（公開出願番号）：特開2011-154160
出願日： 2010年01月27日
公開日（公表日）： 2011年08月11日
要約：
【課題】優れた形状のレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)を満たすクエンチャー(Q)を含むレジスト組成物。ΔDa-ΔDb>ΔDc-ΔDd(I)[式(I)中、ΔDaは、d1及びdaの差の絶対値を表し、ΔDbは、d1及びdbの差の絶対値を表し、ΔDcは、d1及びdcの差の絶対値を表し、ΔDdは、d1及びddの差の絶対値を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)を満たすクエンチャー(Q)を含むレジスト組成物。 ΔDa-ΔDb>ΔDc-ΔDd (I) [式(I)中、 ΔDaは、d1及びdaの差の絶対値を表し、 ΔDbは、d1及びdbの差の絶対値を表し、 ΔDcは、d1及びdcの差の絶対値を表し、 ΔDdは、d1及びddの差の絶対値を表す。 d1、da、db、dc及びddは、(1)〜(3)に記載する方法で測定する。 (1)酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸と作用してアルカリ水溶液で溶解しえる樹脂と、クエンチャー(Q)と、からなる第1の膜を形成し、第1の膜の膜厚d1を測定する。 (2)第1の膜の上に、アルカリ可溶性樹脂と、-C(Q1)(Q2)-SO3H基(Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はC1〜C6ペルフルオロアルキル基を表す。)を有する酸と、からなる第2の膜を形成する。 (3) (3-a)第2の膜を形成した後、第1の膜及び第2の膜を40mJ/cm2の露光量で露光し、熱処理し、アルカリ水溶液で現像し、現像後の第1の膜の膜厚daを測定する。 (3-b)第2の膜を形成した後、第1の膜及び第2の膜を40mJ/cm2の露光量で露光し、アルカリ水溶液で現像し、現像後の第1の膜の膜厚dbを測定する。 (3-c)第2の膜を形成した後、第1の膜及び第2の膜を熱処理し、アルカリ水溶液で現像し、現像後の第1の膜の膜厚dcを測定する。 (3-d)第2の膜を形成した後、第1の膜及び第2の膜をアルカリ水溶液で現像し、現像後の第1の膜の膜厚ddを測定する。]
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/26
FI (4件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/26
Fターム (36件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN01P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN67P ,  2H125AN82P ,  2H125AN85P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BB17P ,  4J100BC04P ,  4J100CA01 ,  4J100DA39 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (5件)
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