特許

J-GLOBAL ID：200903009952930683

ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者： 樽谷 晋司 ,  椿 英明 ,  和田 健二
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-195372
公開番号（公開出願番号）：特開2009-053688
出願日： 2008年07月29日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：

【課題】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにも適用でき、得られるパターン形状が優れたポジ型レジスト組成物とパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(C)酸の作用により分解し、酸を発生する化合物及び(D)それ自身は(A)成分及び(C)成分が発生する酸に対して塩基として働くが、活性光線又は放射線の照射により分解して(A)成分及び(C)成分が発生する酸に対する塩基性を消失する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (C)酸の作用により分解し、酸を発生する化合物及び (D)それ自身は(A)成分及び(C)成分が発生する酸に対して塩基として働くが、活性光線又は放射線の照射により分解して(A)成分及び(C)成分が発生する酸に対する塩基性を消失する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/10

FI (4件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/10

Fターム (70件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA04 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AM17Q ,  4J100AM17R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA02S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA08R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA15S ,  4J100BA40P ,  4J100BA40Q ,  4J100BB17Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC03R ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC07R ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC12P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC52P ,  4J100BC52R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 国際公開第04/077158号パンフレット
  
• レジストパタン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-175821   出願人：学校法人東京電機大学

審査官引用 (9件)

• ポジ型感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-304946   出願人：JSR株式会社
• 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-182299   出願人：東京応化工業株式会社
• レジスト用単量体およびレジスト用重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-294849   出願人：三菱レイヨン株式会社
• 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-149988   出願人：富士フイルムホールディングス株式会社
• 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-006013   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-247408   出願人：富士フイルム株式会社
• 液浸リソグラフィーのための組成物および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-124957   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-229160   出願人：ジェイエスアール株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-334830   出願人：富士写真フイルム株式会社