ガス制御方法及びレーザコントローラ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：宇都宮正明 , 柳瀬睦肇
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-001214
公開番号（公開出願番号）：特開2002-208746
特許番号：特許第4371588号
出願日： 2001年01月09日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ハロゲンガスを含むレーザガスを封入したレーザチャンバと、レーザチャンバ内部に配置され、主放電を起こしてレーザガスを励起する放電電極とを備え、レーザ光のパルスエネルギーが略一定となるように放電電極間に印加する高電圧を制御したガスレーザ装置の、レーザチャンバ内部のレーザガスを所定の組成比に保つように制御するガス制御方法において、ハロゲンガスの注入の前後における前記高電圧を読み取り、ハロゲンガスの注入量あたりの前記高電圧の変化率に基づいて、次回のハロゲンガスの注入量を決定し、レーザチャンバ中にハロゲンガスを所定量注入するハロゲンガス注入工程と、レーザチャンバ中のレーザガスを所定量交換する部分ガス交換工程とを交互に行なうことにより、レーザチャンバ内部のレーザガスを所定の組成比に保つように制御することを特徴とするガス制御方法。

IPC (2件)：

H01S 3/036 ( 200 6.01) , H01S 3/225 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01S 3/03 J , H01S 3/223 E

引用特許：

審査官引用 (5件)

ガス放電レーザシステム及びその制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-075152 出願人：ラムダ・フィジーク・ゲゼルシャフト・ツァ・ヘルシュテルンク・フォン・ラーゼルン・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
特開平4-017380
エキシマレーザ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-041212 出願人：日新電機株式会社

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