基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-011345
公開番号（公開出願番号）：特開2002-217267
特許番号：特許第4124400号
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2002年08月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板に対して複数工程からなる処理を施す基板処理装置であって、鉛直方向に沿って延在する搬送経路と、この搬送経路の周囲に配置され、各々基板に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを鉛直方向に積層して構成される複数の処理部と、前記搬送経路を移動するとともに、前記複数の処理部の各処理ユニットに対して前記基板を搬入出する主搬送機構と、を備え、外部の露光装置及び前記主搬送機構との間で基板を受け渡しする搬送機構と、前記基板を一時的にストックする基板ストック部とを有するインターフェイス機構部を前記処理部において加熱された基板を冷却する冷却処理又は基板を加熱する加熱処理を行なう前記処理ユニットと積層されるように配置し、前記インターフェイス機構部が上下方向に第1段及び第2段の2段に構成され、外部の露光装置との基板の受け渡しが前記第2段でもって行われ、前記第2段が前記第1段を介して加熱された基板を冷却する冷却処理又は基板を加熱する加熱処理を行なう前記処理ユニットから隔てられていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/677 ( 200 6.01) , H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/30 502 J , H01L 21/30 562

引用特許：

審査官引用 (6件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-323704 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-066325 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-256565 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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