特許
J-GLOBAL ID：201003045477481558

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
山口 修平

山口 修平 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-007528
公開番号（公開出願番号）：特開2010-186177
出願日： 2010年01月15日
公開日（公表日）： 2010年08月26日
要約：
【課題】露光ラチチュード、ラインエッジラフネス性能、パターン倒れ性能、現像欠陥性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射によりノルボルニル構造を有する特定の酸を発生する化合物、及び、(B)樹脂側鎖に連結基を介してラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により一般式(I-A)又は(I-B)で表される酸を発生する化合物、及び(B)一般式(3)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  C07C 309/19 ,  C07C 381/12 ,  C09K 3/00 ,  C08F 220/26 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 K ,  C08F220/26 ,  H01L21/30 502R
Fターム (69件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF53P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ13X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ38X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ67X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM13P ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125AN64P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA15Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC53Q ,  4J100JA37
引用特許：
審査官引用 (14件)
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