チャンバ内基体回転装置およびチャンバ内基体の回転方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：前田均 , 鈴木亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-180878
公開番号（公開出願番号）：特開2011-032544
出願日： 2009年08月03日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：

【課題】何らかの処理を行う処理装置のチャンバ内部で、機械的な駆動機構を用いることなく物体を回転させることができる新規なチャンバ内基体回転装置と方法を提供すること。【解決手段】内部が所定の処理雰囲気に保持されるチャンバ4と、チャンバ4内部に回転自在に配置されるサセプタ8と、チャンバ4の外部に配置され、サセプタ8に対して高周波の電磁場を作用させて、サセプタ8を回転させるモーメントを発生させる高周波コイル20と、を有する。サセプタ8は、基体本体16と、その表面を覆う被膜18とを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部が所定の処理雰囲気に保持されるチャンバと、前記チャンバ内部に回転自在に配置される基体と、前記チャンバの外部に配置され、前記基体に対して高周波の電磁場を作用させて、前記基体を回転させるモーメントを発生させる高周波コイルと、を有するチャンバ内基体回転装置。

IPC (5件)：

C23C 14/50 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , C23C 16/44 , C23C 16/458

FI (6件)：

C23C14/50 J , H01L21/205 , H01L21/31 B , C23C14/50 G , C23C16/44 G , C23C16/458

Fターム (14件)：

4K029JA02 , 4K029JA08 , 4K030GA06 , 5F045AA03 , 5F045AA19 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045BB14 , 5F045BB15 , 5F045DP05 , 5F045DP28 , 5F045DQ10 , 5F045EK03 , 5F045EM10

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板回転装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-173689 出願人：株式会社荏原製作所
磁気浮上プロセス装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-167170 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立エンジニアリングサービス
CVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-213465 出願人：株式会社デンソー

全件表示

前のページに戻る