特許
J-GLOBAL ID：201103024788051514
透明導電性膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-180762
公開番号（公開出願番号）：特開2004-030932
特許番号：特許第3985041号
出願日： 2002年06月21日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】インジウム-スズ酸化物、酸化スズまたは酸化亜鉛を含む透明導電性膜を基体上に製造する方法であって、50〜200Vの加速電圧によって加速された、電流密度が5〜300μA/cm2の酸素の分子状正イオンのイオンビームを基体に照射しながら、透明導電性膜を基体上に蒸着することを特徴とする透明導電性膜の製造方法。
IPC (5件)：
H01B 13/00 ( 200 6.01)
, C23C 14/08 ( 200 6.01)
, C23C 14/48 ( 200 6.01)
, H01L 21/28 ( 200 6.01)
, H01L 21/285 ( 200 6.01)
H01B 13/00 503 B
, C23C 14/08 D
, C23C 14/48 D
, H01L 21/28 301 R
, H01L 21/285 P
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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