特許

J-GLOBAL ID：201103025102074021

パターニング方法

発明者： 川添 忠 ,  大津 元一 ,  山本 洋
出願人/特許権者： 独立行政法人科学技術振興機構
代理人 (1件)： 小池 晃
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-194985
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013236
特許番号：特許第3979799号
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 原料ガスに対し非共鳴波長の光を近接場プローブに入射し、上記近接場プローブの先端から上記原料ガスの解離エネルギーよりも大きなエネルギーの近接場光を発生させ、 上記近接場プローブの先端から発生する上記近接場光を上記原料ガスに照射することにより、上記原料ガスを光化学反応により分解し、その分解生成物を基材上に堆積させて所定のパターンを形成することを特徴とするパターニング方法。

IPC (4件)：

C23C 16/48 ( 200 6.01) ,  G02B 6/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  H01L 21/285 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C23C 16/48 ,  G02B 6/10 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光アシストパターン形成方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-121300   出願人：日本電気株式会社
• 微小パターンの作製方法及び作製装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-193791   出願人：キヤノン株式会社