特許
J-GLOBAL ID：201103026667856003
歪み計測用パターン
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-173048
公開番号（公開出願番号）：特開2011-027526
出願日： 2009年07月24日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：
【課題】本発明は、試料を変えることなく、スケールレベルが異なる歪みを一貫して計測できる歪み計測手段を提供することを目的とする。【解決手段】上記課題を解決するために、歪み計測用パターンは、歪み計測方法にて試料の歪みを可視化する為に試料表面に形成され、異なるスケールレベルの歪みに適合した複数のパターンを同一試料面に重ねて形成してあること、また、前記各パターンは、相互にその規則性、形状又は大きさが異ならせてあることを特徴とする手段を用いた。また、前記歪み計測用パターンにおいて、モアレ法用のグリッドパターンと画像相関法用のドットパターンとが重ねられてなること、ミリスケール用パターンと、ナノスケール用パターンとにより構成されていることを特徴とする手段を採用した。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
歪み計測方法にて試料の歪みを可視化する為に試料表面に形成される歪み計測用パターンであって、異なるスケールレベルの歪みに適合した複数のパターンを同一試料面に重ねて形成してあることを特徴とする歪み計測用パターン。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
2F067AA13
, 2F067AA54
, 2F067AA65
, 2F067GG01
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK08
, 2F067RR35
, 2F067RR44
