特許
J-GLOBAL ID：201103027749592299
膜形成用組成物、膜の形成方法および絶縁膜
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
白井 重隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-220270
公開番号（公開出願番号）：特開2001-164185
特許番号：特許第4022802号
出願日： 2000年07月21日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)下記一般式(1)で表される化合物、下記一般式(2)で表される化合物および下記一般式(3)で表される化合物の群から選ばれた少なくとも1種のシラン化合物をアルカリ触媒の存在下に加水分解し、縮合してなるGPC法による重量平均分子量が5万〜300万の加水分解縮合物、ならびに(B)下記一般式(1)で表される化合物、下記一般式(2)で表される化合物および下記一般式(3)で表される化合物の群から選ばれた少なくとも1種のシラン化合物を金属キレート化合物触媒の存在下に加水分解し、縮合してなるGPC法による重量平均分子量が500〜30万である加水分解縮合物を含有することを特徴とする膜形成用組成物。
Ra Si(OR1 )4-a ・・・・・(1)
(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、R1 は1価の有機基、aは1〜2の整数を示す。)
Si(OR2 )4 ・・・・・(2)
(式中、R2 は1価の有機基を示す。)
R3 b (R4 O)3-b Si-(R7 )d -Si(OR5 )3-c R6 c
・・・・・(3)
〔式中、R3 〜R6 は同一または異なり、それぞれ1価の有機基、b〜cは同一または異なり、0〜2の整数、R7 は酸素原子、フェニレン基または-(CH2)n -で表される基(ここで、nは1〜6の整数である)、dは0または1を示す。〕
IPC (5件)：
C09D 183/04 ( 200 6.01)
, C09D 183/02 ( 200 6.01)
, C09D 183/14 ( 200 6.01)
, H01L 21/312 ( 200 6.01)
, H01L 21/316 ( 200 6.01)
C09D 183/04
, C09D 183/02
, C09D 183/14
, H01L 21/312 C
, H01L 21/316 G
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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