特許

J-GLOBAL ID：201103029124663670

スパッタリングターゲット

発明者： 石田 弘徳 ,  宮田 昇 ,  井口 真仁 ,  下嶋 浩正 ,  深澤 健一
出願人/特許権者： 太平洋セメント株式会社 ,  株式会社日本セラテック
代理人 (1件)： 特許業務法人創成国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-043110
公開番号（公開出願番号）：特開2011-179056
出願日： 2010年02月26日
公開日（公表日）： 2011年09月15日
要約：

【課題】スパッタリング時のアーキングが生じ難いスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】酸化亜鉛焼結体からなり、スパッタリング雰囲気にさらされる主面11aのX線回折測定のピーク強度により算出される結晶配向度I002/(I002+I110)が0.2以上、0.58未満であることを特徴とするスパッタリングターゲット。前記酸化亜鉛焼結体は、鋳込み成形体を焼成してなり、前記鋳込み成形体は、吸水性材料の底部と非吸水性材料の側壁部とを備える成形型に原料粉末を分散させたスラリーを注型し、前記吸水性材料の吸水とともに原料粉末を着肉させてなる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

酸化亜鉛焼結体からなり、 スパッタリング雰囲気にさらされる主面のX線回折測定のピーク強度により算出される結晶配向度I002/(I002+I110)が0.2以上、0.58未満であることを特徴とするスパッタリングターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/453 ,  C23C 14/08

FI (3件)：

C23C14/34 A ,  C04B35/00 P ,  C23C14/08 C

Fターム (11件)：

4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030AA35 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030BA02 ,  4G030GA20 ,  4G030GA27 ,  4K029BA49 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 酸化亜鉛系焼結体及びその製造方法並びに用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-099816   出願人：東ソー株式会社
• 濾過式成形型およびその型を用いたセラミックス焼結体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-244900   出願人：三井金属鉱業株式会社
• 結晶配向性酸化亜鉛焼結体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-160743   出願人：東ソー株式会社
• 酸化亜鉛質焼結体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-309783   出願人：京セラ株式会社
• 特開昭51-016317
  
• スパッタリングターゲットおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-322512   出願人：三井金属鉱業株式会社