特許
J-GLOBAL ID：200903097694194787
スパッタリングターゲットおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 高畑 ちより
, 鈴木 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-322512
公開番号（公開出願番号）：特開2007-126736
出願日： 2005年11月07日
公開日（公表日）： 2007年05月24日
要約：
【解決手段】粉末冶金法により製造され、少なくともそのスパッタに供する面に表面研削処理が施こされたスパッタリング用ターゲット材を、3時間以上水に浸漬し、次いで少なくともそのスパッタに供する面に、水を噴射することにより該ターゲット材を洗浄する、洗浄工程を有する。【効果】スパッタリング用ターゲット材表面に付着した研削屑、とくにブラスト処理により生じ、該ターゲット材表面に固着した研削屑およびブラストショット材などを簡便な操作で効率よく除去でき、スパッタリング初期のアーキング発生を抑制して、その発生回数を低減し、スパッタリングターゲットの品質を向上できる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
粉末冶金法により製造され、少なくともそのスパッタに供する面に表面研削処理が施こされたスパッタリング用ターゲット材を、3時間以上水に浸漬し、次いで少なくともそのスパッタに供する面に、水を噴射することにより該ターゲット材を洗浄する、洗浄工程を有することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
4K029BA50
, 4K029BC09
, 4K029CA06
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 4K029DC24
, 4K029DC39
