ガス分析におけるベースガス補正方法とこれを用いたガス分析装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤本英夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-028950
公開番号（公開出願番号）：特開2000-227398
特許番号：特許第3586385号
出願日： 1999年02月05日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】サンプルガスに含まれる複数の測定対象ガスの濃度をそれぞれの測定対象ガス分析計によって分析する場合、サンプルガスに含まれ、サンプルガスのスパン感度に影響を与えるベースガスの濃度範囲を測定対象ガスごとにグループ区分し、前記ベースガスの濃度に基づいて測定対象ガスごとに各グループにおける一つの補正係数を選択し、前記各測定対象ガス分析計の出力を測定対象ガスごとに定点補正すること特徴とするガス分析におけるベースガス補正方法。

IPC (5件)：