特許

J-GLOBAL ID：201103030522403300

塗布膜形成方法および塗布装置

発明者： 太田 義治
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-012704
公開番号（公開出願番号）：特開平11-267573
特許番号：特許第3352417号
出願日： 1999年01月21日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 上部に開口を有する処理容器内に収容された矩形状基板の表面上に帯状ノズルから塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、基板を回転台上に載置する工程と、基板を回転させると同時に、回転する基板の上方で帯状ノズルを、基板の長辺または短辺と平行にした状態で基板に対して相対的に平行移動する軌跡を描くように主に回動させつつ、帯状ノズルから基板上面に塗布液を供給する工程とを具備することを特徴とする塗布膜形成方法。

IPC (4件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 D ,  H01L 21/30 564 C

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-199106   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-155129   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 塗布装置および塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-346141   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 塗布膜形成方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-083206   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 回転塗布装置及び回転塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-041417   出願人：富士通株式会社
• 塗布装置及び塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-131976   出願人：大日本スクリーン製造株式会社