プラズマ生成装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：油井透 , 阿仁屋節雄 , 清野仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-008126
公開番号（公開出願番号）：特開平11-288798
特許番号：特許第4340348号
出願日： 1999年01月14日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】筒状の真空容器と、この真空容器の内部に放電用ガスを導入するガス導入手段と、前記真空容器の内部の雰囲気を排出する雰囲気排出手段と、前記真空容器と同軸的に設けられ、前記放電用ガスを放電させるための高周波電界を形成するリング状の放電用電極と、前記放電用電極に前記高周波電界を形成させるための放電用電力を供給する放電用電力供給手段と、前記放電用電極の周囲に配置され、前記真空容器内部に磁界を形成し、この磁界と前記放電用電極に放電用電力を供給して得られる高周波電界とにより、前記真空容器の周辺部でプラズマを生成する永久磁石と、複数の電子通過孔を有し、処理対象物の配設位置の外側に位置するように設けられるとともに前記真空容器と同軸的に設けられる筒状の壁を有し、前記筒状の壁を前記放電用電極の近傍でこの放電用電極の内側を覆うように配置することにより、前記真空容器の内部領域をその中心軸に垂直な方向にプラズマ生成領域とプラズマ拡散領域とに分割する領域分割手段と、前記筒状の壁を基準電位点から電気的に絶縁する絶縁手段と、前記筒状の壁近傍のプラズマのシース電位を制御する電子温度制御手段とを備えていることを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ( 200 6.01) , C23C 16/50 ( 200 6.01) , C23F 4/00 ( 200 6.01) , H01L 21/205 ( 200 6.01) , H01L 21/302 ( 200 6.01) , H01L 21/31 ( 200 6.01)

FI (8件)：

H05H 1/46 A , H05H 1/46 B , H05H 1/46 L , C23C 16/50 , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , H01L 21/302 , H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (8件)

プラズマ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-085494 出願人：東京エレクトロン山梨株式会社
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-232286 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-072620

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