特許
J-GLOBAL ID：201103032832328327

静電レンズ、電子ビーム描画装置、荷電ビーム応用装置、および、デバイス製造方法

発明者：
奥貫 昌彦

奥貫 昌彦 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-295698
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118491
特許番号：特許第3763446号
出願日： 1999年10月18日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 荷電ビームを通過させる複数の開口を各々有する上部電極基板、レンズ基板および下部電極基板を、前記荷電ビームの通過方向に重ねてなる静電レンズであって、 前記レンズ基板は、前記複数の開口の周りにそれぞれ配置された複数の電極と、前記複数の開口の内壁部にそれぞれ配置された、前記上部電極基板および前記下部電極基板の抵抗値よりも高い抵抗値を持つ複数の高抵抗体と、を備えることを特徴とする静電レンズ。
IPC (4件)：
H01J 37/12 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/305 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H01J 37/12 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 B
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM