微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：久保山隆 , 中山亨
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-288257
公開番号（公開出願番号）：特開2002-099098
特許番号：特許第4006936号
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】フォトレジスト組成物をポリエチレン製の膜及びポリテトラフルオロエチレン製の膜からなる複合膜で構成されているフィルターに通過させた後、さらにポリエチレン製のフィルターを通過させることを特徴とする微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。

IPC (3件)：