基板処理装置および基板処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：鈴江武彦 , 村松貞男 , 坪井淳 , 橋本良郎 , 河野哲 , 中村誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-124104
公開番号（公開出願番号）：特開2000-315671
特許番号：特許第3587723号
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】容器と、この容器内で基板を保持し回転させる基板回転機構と、この基板回転機構に保持された基板上に、この基板を処理するための処理液を供給する処理液供給機構と、前記基板回転機構に保持された基板の上面、下面若しくはその両方に対して溶剤を供給する溶剤供給系統を有し、かつ前記容器の内側に対して霧状の溶剤を供給する溶剤噴霧系統を有する溶剤供給機構と、前記溶剤供給機構を制御し、基板前処理用の溶剤と容器洗浄用の溶剤とを選択的に供給させ、容器洗浄時には、前記溶剤噴霧系統から霧状の溶剤を前記容器の内側に噴き付けた後に、基板を回転させつつ前記溶剤供給系統から溶剤を供給させる制御部と、を具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 643 A , H01L 21/304 648 E

引用特許：

出願人引用 (5件)

塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-268644 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板処理装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-039994 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
洗浄処理方法及び洗浄処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-009011 出願人：東京エレクトロン株式会社

全件表示

審査官引用 (5件)

塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-268644 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板処理装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-039994 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
洗浄処理方法及び洗浄処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-009011 出願人：東京エレクトロン株式会社

全件表示

前のページに戻る