特許
J-GLOBAL ID：201103034551576898

周期性パターンの欠陥検査方法および装置

発明者：
小林 正嘉

小林 正嘉 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-092913
公開番号（公開出願番号）：特開2001-281166
特許番号：特許第3718101号
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 平面的に配列された周期性パターンを有する被検査物の画像を用いて周期性パターン上に欠陥があるかどうかを検査する周期性パターンの欠陥検査方法において、 縦方向および横方向の各辺が前記周期性パターンの縦方向および横方向における各ピッチのそれぞれ整数倍の長さを有し検出しようとする欠陥より大きい矩形領域を、被検査面上において周期性パターンとの相対位置関係を規定することなく設定し、被検査面を走査して、前記矩形領域単位での光量を順次測定していき、それぞれの矩形領域ごとの測定値と、その矩形領域以外の複数の矩形領域での測定値の平均値との比を求め、その比から矩形領域における欠陥の有無を判定することを特徴とする周期性パターンの欠陥検査方法。
IPC (4件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G01M 11/00 ,  G06T 1/00
FI (4件)：
G01N 21/956 Z ,  G01M 11/00 T ,  G06T 1/00 300 ,  G01B 11/24 F
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (4件)
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