基板処理方法および基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-055610
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252247
特許番号：特許第3794860号
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理槽に貯留された浸漬処理液に基板を浸漬し、処理槽内より浸漬処理液を排液する際に、基板に液をシャワーする基板処理方法において、浸漬処理液の液面が、基板上端の高さから、基板の直径に対して少なくとも20パーセントの高さが浸漬処理液の液面より出るまでの区間に位置する間は、前記シャワー液の基板へ向けての供給を、前記区間より下に位置するときより小流量で行うことを特徴とする基板処理方法。

IPC (2件)：