薄膜太陽電池の製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人あーく特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-291217
公開番号（公開出願番号）：特開2001-111078
特許番号：特許第4357668号
出願日： 1999年10月13日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】透光性絶縁基板の片面に積層した薄膜を、その薄膜形成面の反対側から透光性絶縁基板に入射するレーザビームでパターニングして薄膜太陽電池を得る製造装置において、透光性絶縁基板の周縁部のみを支持するステージと、このステージに置かれた透光性絶縁基板を平坦な状態に保持する保持機構とを備え、前記ステージは、くり抜き凹部を設けて透光性絶縁基板の周縁部に対応させた基板周縁支持部を備え、前記保持機構は、前記くり抜き凹部に設けられた脚部と、該脚部に組み合わされ透光性絶縁基板を支持する基板支持部とを備え、前記脚部および前記基板支持部は、前記脚部の底面から前記基板支持部の上端までの高さを調整して透光性絶縁基板を保持する高さを調整する高さ調整機構を介して組み合わされていることを特徴とする薄膜太陽電池の製造装置。

IPC (3件)：

H01L 31/04 ( 200 6.01) , B23K 26/16 ( 200 6.01) , B23K 101/40 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 31/04 S , B23K 26/16 , B23K 101:40

引用特許：

出願人引用 (6件)

レーザー加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-112421 出願人：シャープ株式会社
基板ビーム加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-083987 出願人：シャープ株式会社
特開平3-079085

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審査官引用 (2件)

レーザー加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-112421 出願人：シャープ株式会社
基板ビーム加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-083987 出願人：シャープ株式会社

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