特許
J-GLOBAL ID：201103036866204533

加熱処理システムにおける乾留ガス燃焼温度の制御方法と装置

発明者：
田邊 隆之

田邊 隆之 について


出願人/特許権者：
株式会社明電舎

株式会社明電舎 について


代理人 (1件)： 橋本 剛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201087
公開番号（公開出願番号）：特開2001-027409
特許番号：特許第4096461号
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被処理物を被処理物供給手段により第1キルンに供給して加熱処理し、加熱処理後の被処理物を、連通ダクトおよび該連通ダクト内の間欠送り手段を介して第2キルンに供給して加熱処理し、加熱処理後の被処理物を排出ダクトから排出するとともに、第1キルンおよび第2キルンでの加熱処理時に発生した乾留ガスを導出管で乾留ガス燃焼炉に導き、該乾留ガス燃焼炉で所定の燃焼温度で燃焼した後、排ガス処理手段に送出するようにした加熱処理システムにおける乾留ガス燃焼温度の制御方法において、 前記乾留ガス燃焼炉の燃焼温度の制御は、乾留ガス燃焼炉に導入する乾留ガス量を制御することで行い、 被処理物供給手段での被処理物の供給をスクリューフィダで行い、該スクリューフィダの回転数と第1キルンの回転数の比を一定とし、且つ間欠送り手段の送り回数を一定として、第1キルンの回転数を制御することにより第1キルンと第2キルンへの被処理物の供給量を同時に制御するとともに、第1キルンの回転数の制御は、乾留ガス燃焼炉の温度検出信号が、あらかじめ設定した設定温度の設定値となるように制御することを特徴とする加熱処理システムにおける乾留ガス燃焼温度の制御方法。
IPC (4件)：
F23G 5/50 ( 200 6.01) ,  F23G 5/027 ( 200 6.01) ,  F23G 5/14 ( 200 6.01) ,  F23G 5/20 ( 200 6.01)
FI (5件)：
F23G 5/50 ZAB M ,  F23G 5/50 ZAB G ,  F23G 5/027 ZAB Z ,  F23G 5/14 ZAB F ,  F23G 5/20 ZAB A
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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