特許
J-GLOBAL ID:201103037317828882
ポリッシング装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-061283
公開番号(公開出願番号):特開2000-317827
特許番号:特許第3897507号
出願日: 2000年03月06日
公開日(公表日): 2000年11月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】 研磨面を有した研磨テーブルと、
ポリッシング対象物を保持しポリッシング対象物を研磨面に押圧するトップリングと、
装置内の2つの位置間でポリッシング対象物を搬送する搬送機構とを備え、
前記搬送機構は、高さ方向の異なる位置に配置された2本の直線レールと、該レールのそれぞれに沿って摺動可能な2個の置き台とを備え、2個の置き台は高さ方向に互いに干渉しないように個別に水平方向に移動可能であり、2個の置き台はそれぞれがトップリングのポリッシング対象物搬送位置に移動可能となっていて、該位置にてプッシャによりポリッシング対象物をトップリングに受け渡し、2個の置き台はそれぞれが搬送ロボットのポリッシング対象物受け渡し位置に移動可能となっていて、該位置にて搬送ロボットとポリッシング対象物を受け渡し、
前記搬送ロボットの到達可能位置にリンス機構とシャッターとを備えたステーションが配置されており、該ステーションに研磨後のポリッシング対象物をシャッターを開き搬入してリンス洗浄することを特徴とするポリッシング装置。
IPC (3件):
B24B 37/04 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
, H01L 21/677 ( 200 6.01)
FI (4件):
B24B 37/04 Z
, H01L 21/304 621 Z
, H01L 21/304 622 L
, H01L 21/68 A
引用特許:
審査官引用 (8件)
-
ポリッシング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-238505
出願人:株式会社荏原製作所
-
試料搬送装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-241529
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
特開昭59-227361
-
特開昭59-227361
-
研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-332117
出願人:株式会社岡本工作機械製作所
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-129808
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
ポリッシング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-297821
出願人:株式会社東芝, 株式会社荏原製作所
-
特開昭59-227361
全件表示
前のページに戻る