特許
J-GLOBAL ID：201103038259882207

基板処理装置

発明者：
井関 出

井関 出 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-246197
公開番号（公開出願番号）：特開2002-057147
特許番号：特許第3599650号
出願日： 2000年08月15日
公開日（公表日）： 2002年02月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板上に塗布膜を形成する基板処理装置であって、シートに塗布液を塗布してシート上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、塗布膜が形成されたシートと基板とを貼り合わせる貼り合わせユニットと、基板からシートだけを剥離して基板に塗布膜を転写する剥離ユニットと、前記3つのユニットに基板とシートとを搬送する搬送機構と、を備え、 前記搬送機構は、中心部付近で基板を吸着することで基板を保持する基板保持アームと、周縁部分でシートを吸着することでシートを保持するシート保持アームとを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/31 ,  B05C 13/02 ,  B05D 3/00 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/16 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68
FI (7件)：
H01L 21/31 A ,  B05C 13/02 ,  B05D 3/00 C ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 578
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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