特許
J-GLOBAL ID：201103038794793655

低融点ガラスのパターン形成方法、前記方法における低融点ガラスのリサイクル方法、並びに前記方法に用いる研削材

発明者：
間瀬 恵二

間瀬 恵二 について

, 
神田 真治

神田 真治 について


出願人/特許権者：
株式会社不二製作所

株式会社不二製作所 について


代理人 (1件)： 小倉 正明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-301629
公開番号（公開出願番号）：特開2001-122644
特許番号：特許第4171821号
出願日： 1999年10月22日
公開日（公表日）： 2001年05月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】表示放電パネルの低融点ガラスのパターン形成において、ガラス基板上に低融点ガラスペーストを塗布乾燥後、低融点ガラスの焼成前に耐サンドブラスト性のレジストにてパターン形成後、レジスト以外の部分を研削材として融点600°C以上の金属粒子を90%以上含有する粉末を用いて低融点ガラスを切削加工後エアーブローを行った後、水洗し、切削された低融点ガラスを破砕された研削材と共に回収し、前記切削加工後の低融点ガラスを焼成して低融点ガラスのパターンを形成することを特徴とする低融点ガラスのパターン形成方法。
IPC (3件)：
C03C 19/00 ( 200 6.01) ,  H01J 9/02 ( 200 6.01) ,  H01J 11/02 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C03C 19/00 A ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B
引用特許：
審査官引用 (15件)
全件表示
引用文献：
審査官引用 (1件)
  • 図解-機械用語辞典, 19931130, 第3版第1刷, 564

前のページに戻る

TOP

BOTTOM