特許
J-GLOBAL ID：201103039636514249

ポジ型レジスト組成物

発明者：
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について

, 
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

, 
青合 利明

青合 利明 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-127296
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321771
特許番号：特許第3890390号
出願日： 1999年05月07日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)下記一般式(I)で示される繰り返し単位、下記一般式(II)で示される繰り返し単位、及び下記一般式(III-a)〜(III-d)で示される繰り返し単位のうち少なくとも1種を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 上記式中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。R2は炭素数1〜4個のアルキル基を表す。R3、R4は各々独立に水素原子又は炭素数1〜4個のアルキル基を表す。R5〜R12は各々独立に水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。 Rは、水素原子あるいは、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。mは、1〜10の整数を表す。 Xは、単結合又は、置換基を有していてもよい、アルキレン基、環状アルキレン基、アリーレン基あるいは、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基からなる群から選択される単独、あるいはこれらの基の少なくとも2つ以上が組み合わされ、酸の作用により分解しない2価の基を表す。 Zは、単結合、エーテル基、エステル基、アミド基、アルキレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表す。R13は、単結合、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表す。R15は、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表す。R14は置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。R16は、水素原子あるいは、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表す。 Aは、下記に示す官能基のいずれかを表す。
IPC (9件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  C08F 220/04 ( 200 6.01) ,  C08F 220/18 ( 200 6.01) ,  C08F 220/28 ( 200 6.01) ,  C08K 5/00 ( 200 6.01) ,  C08L 33/02 ( 200 6.01) ,  C08L 33/04 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (9件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 220/04 ,  C08F 220/18 ,  C08F 220/28 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/02 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
出願人引用 (4件)
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