特許
J-GLOBAL ID:201103040031135457
3次元半導体装置の配線構造体
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萩原 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-029611
公開番号(公開出願番号):特開2011-171735
出願日: 2011年02月15日
公開日(公表日): 2011年09月01日
要約:
【課題】集積度及び信頼性を共に向上させた3次元半導体装置を提供する。【解決手段】3次元半導体装置の配線構造が提供される。3次元半導体装置は3次元基板上に2次元的に配列された積層構造体、第1配線を含み、積層構造体の上部に配置される第1配線層及び第2配線を含み、第1配線層の上部に配置される第2配線層を含み、積層構造体各々は順次に積層された複数の下部ワードラインを含む下部構造体及び順次に積層された複数の上部ワードラインを含み、下部構造体の上部に配置される上部構造体を含み、第1配線各々は下部ワードラインの内の何れか1つに連結し、第2配線各々は上部ワードラインの内の何れか1つに連結する。【選択図】 図10
請求項(抜粋):
基板上に2次元的に配列された積層構造体と、
第1配線を含み、前記積層構造体の上部に配置される第1配線層と、
第2配線を含み、前記第1配線層の上部に配置される第2配線層とを含み、
前記積層構造体の各々は、
順次に積層された複数の下部ワードラインを含む下部構造体と、
順次に積層された複数の上部ワードラインを含み、前記下部構造体の上部に配置される上部構造体とを含み、
前記第1配線の各々は前記下部ワードラインの内の何れか1つに連結し、前記第2配線各々は前記上部ワードラインの内の何れか1つに連結することを特徴とする3次元半導体装置。
IPC (5件):
H01L 27/10
, H01L 21/824
, H01L 29/788
, H01L 29/792
, H01L 27/115
FI (3件):
H01L27/10 481
, H01L29/78 371
, H01L27/10 434
Fターム (31件):
5F083EP02
, 5F083EP17
, 5F083EP22
, 5F083EP33
, 5F083EP34
, 5F083GA10
, 5F083HA02
, 5F083KA01
, 5F083KA10
, 5F083LA02
, 5F083LA03
, 5F083LA04
, 5F083LA05
, 5F083LA12
, 5F083LA16
, 5F083LA20
, 5F083LA21
, 5F083MA04
, 5F083MA06
, 5F083MA16
, 5F083NA08
, 5F083ZA13
, 5F083ZA14
, 5F101BA01
, 5F101BA41
, 5F101BA54
, 5F101BB02
, 5F101BD16
, 5F101BD22
, 5F101BD30
, 5F101BD35
引用特許:
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