特許
J-GLOBAL ID：201103040501481489

酸化処理装置

発明者：
一村 信吾

一村 信吾 について

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野中 秀彦

野中 秀彦 について

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西口 哲也

西口 哲也 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について

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株式会社明電舎

株式会社明電舎 について


代理人 (1件)： 橋本 剛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-089356
公開番号（公開出願番号）：特開2002-289598
特許番号：特許第3833899号
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被酸化試料に対向する位置に置かれて低温に保持されたターゲット基板に酸化種を吸着させ、吸着させた酸化種に対してレーザ光を照射してアブレーションを行うことで、活性な指向性ビームを得て被酸化試料に酸化膜を形成する装置において、 前記ターゲット基板には、酸化種と窒化種を混合させて吸着させておく構成を特徴とする酸化処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  C23C 14/28 ( 200 6.01) ,  H01L 21/316 ( 200 6.01) ,  H01L 21/318 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H01L 21/31 A ,  C23C 14/28 ,  H01L 21/316 A ,  H01L 21/318 A
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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