特許
J-GLOBAL ID：201103040621737711

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
西山 文之

西山 文之 について

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藤森 亨

藤森 亨 について

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瀧田 敏

瀧田 敏 について

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板橋 英之

板橋 英之 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-057062
公開番号（公開出願番号）：特開2002-258483
特許番号：特許第4495872号
出願日： 2001年03月01日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂であって、下記一般式(IV)で表される繰り返し単位及び一般式(V)で表される繰り返し単位を含む樹脂、及び、 (C)下記一般式(I)の構造で表される化合物 を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 上記式中、Rは同一または異なっていてもよく、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、アルキルチオ基、アリール基を表す。 Bは-COO-Bとして酸で分解可能な基を表す。 mは1〜3の整数を表す。 [上記式中、Lは、水素原子、置換されてもよい、直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は置換されていてもよいアラルキル基を表す。Zは、置換されてもよい、直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は置換されていてもよいアラルキル基を表す。またZとLが結合して5又は6員環を形成してもよい。]
IPC (6件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  C08K 5/00 ( 200 6.01) ,  C08K 5/101 ( 200 6.01) ,  C08L 25/18 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (6件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/101 ,  C08L 25/18 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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