特許
J-GLOBAL ID：201103041353189338

ナノレイヤ被覆方式による被覆物

発明者：
シュー、フェンティン

シュー、フェンティン について

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ニ、ワンヤン

ニ、ワンヤン について

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リュー、イーション

リュー、イーション について

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ペニッチ、ロナルド エム.

ペニッチ、ロナルド エム. について

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デルフリンガー、フォルカー-ヘルマン

デルフリンガー、フォルカー-ヘルマン について

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クィント、デニス ティー.

クィント、デニス ティー. について

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バウアー、チャールズ イー.

バウアー、チャールズ イー. について


出願人/特許権者：
ケンナメタル インコーポレイテッド

ケンナメタル インコーポレイテッド について

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エリコン トレーディング リミテッド トリューブバッハ

エリコン トレーディング リミテッド トリューブバッハ について


代理人 (3件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-538039
公開番号（公開出願番号）：特表2011-506115
出願日： 2008年11月26日
公開日（公表日）： 2011年03月03日
要約：
基板22と被膜とを含む物品が提供される。本物品は、チップ形成材料除去工程において性能を改善するように示された切削インサート20、あるいはチップ無し形成工程のための耐摩耗部品であってよい。1つの耐摩耗被覆方式40はアルミニウム、クロムおよび窒素を含有する下層42と最上層46とを有する。被覆方式40はまた、チタン、アルミニウム、クロムおよび窒素を含有する中間多周期性ナノレイヤ被覆方式44を含む。中間多周期性ナノレイヤ44被覆方式は複数の組の交互層配置50、52、54、56、58、60、62を含む。交互層配置50、52、54、56、58、60、62のそれぞれは、チタン、アルミニウムおよび窒素を含むベース層64と、複数の組の交互ナノレイヤ68、70、72、74、76、78を有するナノレイヤ領域とを有する。交互ナノレイヤ68、70、72、74、76、78のそれぞれの組は、アルミニウム、クロム、チタンおよび窒素とを有する1つのナノレイヤ82と、アルミニウム、クロム、チタンおよび窒素を有する別のナノレイヤ84とを有する。ベース層厚さGはナノレイヤ領域厚さFより小さい。
請求項（抜粋）：
チップ形成材料除去工程で使用される被覆切削インサートであって、 前記切削インサートは基板と耐摩耗被覆方式とを含み、 前記耐摩耗被覆方式は、チタン、アルミニウム、クロムおよび窒素を含有する中間多周期性ナノレイヤ被覆方式を含み、 前記中間多周期性ナノレイヤ被覆方式は複数の組の交互層配置を含み、 前記交互層配置のそれぞれは、チタン、アルミニウムおよび窒素を含むベース層と、複数の組の交互ナノレイヤを含むナノレイヤ領域とを含み、 前記交互ナノレイヤのそれぞれの組はアルミニウム、クロム、チタンおよび窒素を含む1つのナノレイヤと、アルミニウム、クロム、チタンおよび窒素を含む別のナノレイヤとを含み、 前記ベース層はベース層厚さを有し、前記ナノレイヤ領域はナノレイヤ領域厚さを有し、前記ベース層厚さは前記ナノレイヤ領域厚さより小さい、被覆切削インサート。
IPC (5件)：
B23B 27/14 ,  B23C 5/16 ,  B23B 51/00 ,  B23P 15/28 ,  C23C 14/06
FI (6件)：
B23B27/14 A ,  B23C5/16 ,  B23B51/00 J ,  B23P15/28 A ,  C23C14/06 A ,  C23C14/06 P
Fターム (25件)：
3C037CC02 ,  3C037CC09 ,  3C037CC10 ,  3C037CC11 ,  3C046FF03 ,  3C046FF04 ,  3C046FF05 ,  3C046FF09 ,  3C046FF10 ,  3C046FF13 ,  3C046FF16 ,  3C046FF19 ,  3C046FF25 ,  4K029AA02 ,  4K029AA04 ,  4K029AA21 ,  4K029BA58 ,  4K029BB02 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA04 ,  4K029CA13 ,  4K029DD06 ,  4K029EA01 ,  4K029FA05
引用特許：
審査官引用 (11件)
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