特許
J-GLOBAL ID:201103042010107499

流量制御弁

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 千葉 剛宏
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-211938
公開番号(公開出願番号):特開2003-028317
特許番号:特許第3756429号
出願日: 2001年07月12日
公開日(公表日): 2003年01月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 電極と該電極に接続された加熱手段とが設けられた第1の基板と、 前記加熱手段の加熱作用によって膨張する膨張体が内部空間に保持され、前記膨張体に連動して撓曲する可撓性薄膜が設けられた第2の基板と、 前記可撓性薄膜に対向するシーリング部と、流体が導入・導出される入力ポート及び出力ポートとを有し、前記第1の基板とによって前記第2の基板を間に挟持する第3の基板と、 前記内部空間に臨んで配設され、前記膨張体が膨張するときの圧力を検出する少なくとも1つ以上の圧力検出センサと、 前記電極及び圧力検出センサに接続され、前記可撓性薄膜が前記膨張体の膨張作用に連動して撓む際、前記圧力検出センサから導出される検出信号に基づいて前記加熱手段への制御信号を制御することにより前記可撓性薄膜と前記シーリング部との離間間隔を調整する制御手段と、 を備えることを特徴とする流量制御弁。
IPC (4件):
F16K 7/17 ( 200 6.01) ,  F16K 31/66 ( 200 6.01) ,  F16K 31/68 ( 200 6.01) ,  F16K 49/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
F16K 7/17 Z ,  F16K 31/66 ,  F16K 31/68 A ,  F16K 49/00 B
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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