電子線マスク,その製造方法及び露光方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺喜平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-368719
公開番号（公開出願番号）：特開2001-185472
特許番号：特許第3358609号
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】電子ビームによる一括投影露光工程で用いられる電子線マスクにおいて、設計パターンに基づいて設けられた開口部の少なくとも一部に、前記電子ビームが透過する材質からなり、未露光部を補強するための薄膜を埋め込み形成したことを特徴とする電子線マスク。

IPC (3件)：