特許
J-GLOBAL ID：200903019004864016
荷電粒子線転写用マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099006
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116782
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：
【要約】【課題】 パターンが形成されたメンブレンが熱的、強度的に十分に保持され、パターン形成に関与しない境界領域が占める割合を低減し、連続スキャンまたはステップスキャン露光可能な荷電粒子線転写用のマスクを提供すること。【解決手段】 荷電粒子線を透過させるメンブレン2上で、ターゲットに転写すべきパターンをそれぞれ備えた多数の小領域10aがパターンが存在しない境界領域10bにより区分されたマスクであり、多数の小領域10aのそれぞれに荷電粒子線の散乱体3aが形成され、また境界領域10bに対応する部分に支柱Hが設けられた荷電粒子線縮小転写用のマスクにおいて、支柱Hは一方向のみに配列されてなり、かつ、シリコン単結晶によりメンブレン2の面に対して垂直または略垂直に形成される。
請求項（抜粋）：
ターゲットに転写すべきパターンをメンブレン上にそれぞれ備えた多数の小領域が前記パターンが存在しない境界領域により区分されたマスクであり、前記境界領域に対応する部分に支柱が設けられた荷電粒子線転写用のマスクにおいて、前記支柱のうちシリコン単結晶により前記メンブレンの面に対して垂直または略垂直に形成されてなる支柱は一方向のみに配列されることを特徴とする荷電粒子線転写用マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 502 P
, G03F 1/16 B
, H01L 21/30 541 S
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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