特許
J-GLOBAL ID：201103043793955167
反射膜および反射膜の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥田 誠司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-243390
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057620
特許番号：特許第3933422号
出願日： 2001年08月10日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (a)コレステリック液晶材料と少なくとも一種類の重合性化合物とを含むコレステリック組成物を用意する工程と、
(b)前記コレステリック液晶材料が層法線に概ね沿ったらせん構造を形成するコレステリック組成物層を形成する工程と、
(c)前記コレステリック組成物がコレステリック相を呈する温度で前記コレステリック組成物層に化学線を照射し、前記少なくとも一種類の重合性化合物を重合させる工程と、を包含し、前記らせん構造のらせんピッチが連続的に変化する構造を有する反射膜の製造方法であって、
工程(a)は、非重合性ネマチック液晶材料と、重合性カイラル剤とを含む前記コレステリック組成物を用意する工程を含み、
前記コレステリック組成物のTni点は、工程(c)を実行することによって上昇し、工程(c)の前後における前記コレステリック組成物のTni点の変化量ΔTniが5°C以上30°C以内である、反射膜の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1335 ( 200 6.01)
, G02F 1/13 ( 200 6.01)
G02F 1/133 520
, G02F 1/13 101
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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