特許
J-GLOBAL ID：201103044346826984

ガスバリア性フィルム、その製造方法及びそのガスバリア性フィルムを用いた有機光電変換素子

発明者：
井 宏元

井 宏元 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-054174
公開番号（公開出願番号）：特開2011-183773
出願日： 2010年03月11日
公開日（公表日）： 2011年09月22日
要約：
【課題】高いバリア性能、折り曲げ耐性、平滑性とともに断裁加工適性に優れるガスバリア性フィルムを提供すること、及びそれを用いた有機光電変換素子を提供する。【解決手段】基材の少なくとも片面に、ポリシラザン含有液を塗布してガスバリア層を形成したガスバリア性フィルムであって、該ガスバリア層は、改質処理を施すことにより該ガスバリア層の表面に隣接した2層の改質層が形成されており、かつその2層の窒素含有量が異なることを特徴とするガスバリア性フィルム。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基材の少なくとも片面に、ポリシラザン含有液を塗布してガスバリア層を形成したガスバリア性フィルムであって、該ガスバリア層は、改質処理を施すことにより該ガスバリア層の表面に2層の改質層が形成され、2層の改質層の窒素含有量が異なることを特徴とするガスバリア性フィルム。
IPC (2件)：
B32B 9/00 ,  H01L 31/04
FI (2件)：
B32B9/00 Z ,  H01L31/04 F
Fターム (34件)：
4F100AA14C ,  4F100AA14D ,  4F100AA20C ,  4F100AA20D ,  4F100AK01A ,  4F100AK41 ,  4F100AK79B ,  4F100AK79C ,  4F100AK79D ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100BA27 ,  4F100EH46B ,  4F100EH46C ,  4F100EH46D ,  4F100EJ54B ,  4F100EJ54C ,  4F100EJ54D ,  4F100EJ64B ,  4F100EJ64C ,  4F100EJ64D ,  4F100GB41 ,  4F100JD02B ,  4F100JD02C ,  4F100JD02D ,  4F100JK14B ,  4F100JK14C ,  4F100JK14D ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D ,  5F151EA18
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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