特許

J-GLOBAL ID：201103045143793432

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

発明者： マルティヌス ヘンドリクス アントニウス レーンダース ,  ヨースト ジェローン オッテンス ,  ニコラース ルドルフ ケンパー
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-124242
公開番号（公開出願番号）：特開2011-205121
出願日： 2011年06月02日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：

【課題】液浸リソグラフィにおいてスループットを向上させる。【解決手段】液浸露光装置が開示される。投影系と基板との間に液体を供給する液体供給システムの少なくとも一部が走査中に基板上面に実質的に平行な面内に移動可能である。この一部は、この一部と基板との間の相対速度を低減させるよう運動する。これにより投影系に対する基板の速度を増加させることができる。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

投影系と基板との間の空間を包囲して該空間において少なくとも部分的に液体を拘束し、移動可能表面を備え、使用時に該液体のメニスカスが前記空間において該表面と基板との間に延在するよう構成されているバリア部材と、 基板が移動している間の少なくとも一部において投影系に対して基板移動方向と実質的に同方向の成分を有する方向に基板速度の2倍以下の速度で前記移動可能表面の移動を制御する制御部と、を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 515D

Fターム (5件)：

5F146BA04 ,  5F146BA05 ,  5F146BA11 ,  5F146DA32 ,  5F146DA33

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-050127   出願人：キヤノン株式会社
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-142059   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• ステージ装置及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-120008   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-386748   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 露光装置及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-185389   出願人：キヤノン株式会社