ガス検知方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：北村修一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-064769
公開番号（公開出願番号）：特開2001-255295
特許番号：特許第4197823号
出願日： 2000年03月09日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】金属酸化物半導体を主成分とするガス感応部を設けられ、被検知ガスと接触状態に配置されるガス検知素子を、そのガス検知素子の劣化要因を除去するためのパージ電圧をパルス印加して通電加熱した後、所定の待機時間経過後に、前記ガス検知素子に出力を得るための検知電圧をパルス印加したときの出力から被検知ガスを検知するガス検知方法であって、前記ガス検知素子の周囲温度に基づき、前記待機時間を可変に設定するガス検知方法。

IPC (1件)：