特許
J-GLOBAL ID:201103047543760480
ショットキーバリアダイオード
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
武 顕次郎
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-051591
公開番号(公開出願番号):特開2000-252478
特許番号:特許第3943749号
出願日: 1999年02月26日
公開日(公表日): 2000年09月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 低不純物濃度を有する第1導電型の第1半導体層、および高不純物濃度を有する第1導電型の第2半導体層とからなるSiC半導体基板と、
前記第1半導体層の主表面に第1のイオン注入エネルギーでイオン注入して形成した、深さおよび相互間の間隔が比較的大きな第2導電型の複数の第1表面層と、
前記第1表面層相互間に前記第1のイオン注入エネルギーより小さな第2のイオン注入エネルギーでイオン注入して形成した、深さおよび相互間の間隔が前記第1表面層より小さな第2導電型の第2表面層と、
前記第1半導体層の主表面に接合し、前記第1表面層および第2表面層と低抵抗でオーム接触するショットキー金属と、
前記第2半導体層にオーム接触するカソード電極とからなるショットキーバリアダイオード。
IPC (2件):
H01L 29/872 ( 200 6.01)
, H01L 29/47 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 29/48 D
, H01L 29/48 F
, H01L 29/48 E
引用特許: