特許
J-GLOBAL ID：201103048460566670

基板の湿式洗浄方法

発明者：
稲垣 靖史

稲垣 靖史 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 舘野 千惠子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369632
公開番号（公開出願番号）：特開2002-172366
特許番号：特許第4352606号
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 有効成分を水に溶解してなる洗浄液を、洗浄ドラフト内に設けた洗浄槽に貯留し、該洗浄液に被洗浄基板を浸漬し、洗浄ドラフト内に加湿により相対湿度を40〜50%の範囲内に制御し、且つ温度を常温に制御したクリーンエアーを、洗浄槽の洗浄液液面に向けて鉛直方向下向きに供給するとともに、洗浄ドラフト内の空気を所定範囲内の排気量で排気しながら被洗浄基板の洗浄を行う基板の湿式洗浄方法。
IPC (4件)：
B08B 3/08 ( 200 6.01) ,  C23F 1/08 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  H01L 21/306 ( 200 6.01)
FI (6件)：
B08B 3/08 Z ,  C23F 1/08 ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/306 J
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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